TFC Essential Macleod是由美国 Thin Film Center Inc. 开发的专业光学薄膜分析与设计软件包，堪称光学镀膜领域的标杆工具，能满足从膜系设计、性能分析到生产误差模拟的全流程需求，适配 32 位和 64 位微软 Windows 系统（除 Windows RT 外），且具备多文档操作界面，兼容 Zemax、Code V 等主流光学软件。其核心架构为 Core 核心模块搭配 5 个附加模块。该软件广泛应用于光学元件制造、光通信、显示技术等领域，是科研人员和工程师进行光学薄膜研发与生产的核心工具之一。
安装教程
安装文件
安装好后不要注册license，直接关闭。
软件安装完后先不要运行软件，找到 C:\Program Files (x86)\Thin Film Center\License 中的crp32002.ngn 文件，先把这个文件剪切到其他地方备份，然后把Keygen 文件夹中的所有文件复制到 C:\Program Files (x86)\Thin Film Center\License 文件夹中，点右键用管理员身份运行macleod v10 kg.exe，生成一个 Site Code,复制
点右键用管理员身份运行C:\Program Files (x86)\Thin Film Center\License 中的ckInfo+.exe，然后选择 macleod.ckinfo 文件
输入前面复制的 Site Code，按回车键,就会生成 Encrypting Key
运行软件选择”Have site kev”
把复制的” Encrypting Key”粘贴进去，再点 Validate 按钮
出现下面界面说明注册成功了
注册完后，把之前备份的 crp32002.ngn 文件再复制到 C:\Program Files(x86)\Thin FilmCenter\License 目录中去替换原来的，如果提示文件被占用不能替换，在任务管理器里面找到crp32002.ngn 进程，结束掉进程，再替换
主要模块
Core 核心模块
这是软件的基础必备模块，构建了薄膜设计与分析的核心能力。一方面可完成全面的效能计算，除常规的反射、透射计算外，还能测算沉积密度、吸收度、椭圆参数等，也支持群组延迟等超快参数计算，以及基于 CIE 标准的色彩计算，同时能评估设计对膜层厚度微小变化的公差灵敏度。另一方面，它配备了丰富的设计分析工具，比如通过导纳图、电场分布图辅助理解膜系设计原理，借助 n&k 提取工具从光谱数据中确定薄膜的折射率和消光系数；还支持以 Simplex 优化法开展逆向工程，对比已镀膜层的实际结构与设计方案的差异，此外提供 6 个优化工具和 2 个合成工具，可灵活锁定或关联膜层进行优化。
Runsheet 模块
该模块聚焦镀膜制程的落地设计，包含机器配置编辑器和跑单生成器。前者可存储镀膜机的详细参数，像监控系统、入射角、加工因子等关键设置；后者能针对既定机器配置规划镀膜监控方案，支持光学与晶体双重监控，还允许用户自定义每一层膜的监控波长、带宽等参数，镀膜过程中可更换监控芯片，最终监测数据能以多种格式导出为定制化报告。
Simulator 模块
专门解决镀膜过程中的公差问题，采用蒙特卡罗法模拟薄膜淀积控制过程。它能引入信号噪声、加工因子波动、封装密度误差等实际生产中可能出现的随机与系统效应，通过模拟这些因素对镀膜结果的影响，帮助科研和生产人员提前预判设计在量产中的稳定性，筛选出抗误差能力更强的方案。
Monitorlink 模块
承担着软件与硬件联动的桥梁作用。它能将 Runsheet 模块生成的设计方案与淀积控制器直接连接，不仅可独立与控制器通信，还能扩展 Runsheet 功能，实现镀膜程序的生成与编辑，让设计方案能直接对接生产设备，减少从设计到量产的衔接误差。
VStack 模块
主打斜射光效应的计算与优化。当光束斜入射膜系时，容易出现偏振泄漏问题，该模块可精准计算这种泄漏的程度并输出相关参数。这一功能对需要应对复杂入射角度的光学薄膜设计，如部分光学滤镜、透镜镀膜等场景至关重要。
Function 模块
提供强大的函数扩展能力，适配复杂的个性化计算需求。其一是支持简单宏语言，可在表格中运行，能实现阵列数据插值、黑体辐射光源创建等操作，还可重复执行同类复杂计算；其二是搭载 Basic 脚本语言，配备专用编辑器，脚本可调用软件核心功能并添加到工具栏，且兼容 Word 等外部程序。软件还内置了 OLED 特性计算、纳米复合材料建模等预制脚本，降低高阶操作门槛。
