XPS谱图分析软件Avantage 6.9.0中文完整版+安装教程

Avantage是一款功能强大的XPS数据分析软件,具备数据采集、定量分析、元素鉴别、分峰拟合等多种功能,并支持数据导出至多种格式。文章提供了从下载安装包到完成安装的每一步骤,包括关闭杀毒软件、选择安装路径、同意协议、选择安装类型等。此外,还提供了切换软件语言至中文的方法。
本次小丑带来的是 XPS谱图分析软件Avantage 6.9.0中文完整版,以下是详细的安装教程,请务必按照步骤操作,否则可能导致安装失败XPS谱图分析软件Avantage 6.9.0中文完整版+安装教程插图

安装教程

1、下载解压压缩包,运行INSTALLATION Avantage v 6.9.0.59_4m3Nt0jO.exeXPS谱图分析软件Avantage 6.9.0中文完整版+安装教程插图1

2、中间一直默认即可XPS谱图分析软件Avantage 6.9.0中文完整版+安装教程插图2

3、安装中XPS谱图分析软件Avantage 6.9.0中文完整版+安装教程插图3

4、安装完会重启电脑XPS谱图分析软件Avantage 6.9.0中文完整版+安装教程插图4

5、电脑重启后,双击打开安装包中的“reg双击打开,修改注册表延长试用期Avantage 30days”(该文件每隔30天运行一次或每次使用前运行一次,即可长时间使用);XPS谱图分析软件Avantage 6.9.0中文完整版+安装教程插图5XPS谱图分析软件Avantage 6.9.0中文完整版+安装教程插图6

6、双击打开软件,点击“确定”;XPS谱图分析软件Avantage 6.9.0中文完整版+安装教程插图7

7、每30天运行一次regXPS谱图分析软件Avantage 6.9.0中文完整版+安装教程插图

核心模块

▶ 模块 1:Instrument Control 「仪器控制 & 数据采集」(基础核心)

  • 所有采集操作的入口,也是和 OMNIC 差异最大的模块(XPS 对硬件控制要求更高)
  • 光源控制:切换单色化 Al Kα/Mg Kα 光源,调节功率、光斑大小,自动校准光源强度;
  • 样品台控制:样品平移 / 旋转、真空腔控制、离子枪刻蚀参数(刻蚀速率、时间、区域)设置;
  • 采集模式:①全谱扫描(Survey):宽范围(0-1400 eV)定性,快速识别样品中所有元素;②窄谱扫描(High-Res):针对单个元素的特征峰精细扫描,用于分峰拟合和定量;③深度剖析(Depth Profile):离子枪刻蚀 + 循环采集,生成元素随刻蚀深度的分布曲线;④线扫 / 面扫(Mapping):样品表面元素的空间分布成像,生成元素分布图。
  • 采集参数:调节步长(Survey 用 1 eV,High-Res 用 0.1 eV)、扫描次数、通能(Pass Energy),6.9.0 支持参数模板保存,同类型样品一键调用,无需重复设置。

▶ 模块 2:Data Processing 「数据预处理」(高频使用)

采集完的原始谱图必须经过预处理才能分析,所有操作无损可逆,也是新手最需要掌握的部分,和 OMNIC 的红外谱图处理逻辑相通,但步骤更精简:
  1. 基线校正:自动 / 手动扣除背景(Shirley 背景为主,也支持 Linear、Tougaard 背景,针对金属 / 合金样品);
  2. 谱图校准:标配 C1s 284.8 eV 校准,一键校正所有元素峰的结合能偏移(XPS 核心校准步骤);
  3. 谱图优化:平滑、归一化、扣背底、峰形矫正,消除噪声和杂峰干扰;
  4. 批量处理:对深度剖析的序列谱图,一键批量预处理,效率极高。

▶ 模块 3:Analysis & Fitting 「定性 + 定量 + 分峰拟合」(核心核心,XPS 灵魂)

这是 Avantage 6.9.0 的核心竞争力,也是和其他 XPS 软件(CasaXPS、XPS Peak)对比的优势点,6.9.0 的拟合算法是同版本中最精准的

✔ 定性分析

  • 全谱(Survey)自动匹配元素数据库,标注所有元素的特征峰,判断样品成分、杂质元素;
  • 支持元素价态初步判断,比如 O1s 在 531.5 eV 为羟基,532.8 eV 为羰基。

✔ 定量分析

  • 基于峰面积积分 + 灵敏度因子(SF) 自动计算元素的原子百分比(At%),无需手动计算,结果直接导出;
  • 支持元素含量的误差分析、归一化处理,可排除 C 污染峰的干扰,定量结果可直接用于论文。

✔ 分峰拟合(高分辨窄谱核心)

6.9.0 的重点更新项,也是 XPS 数据分析的核心难点,完美适配所有常见元素:
  • 内置20 + 常用元素的拟合模板:C1s(C-C/C-H、C-O、C=O、O-C=O)、O1s(晶格氧、吸附氧、羟基)、N1s(氨基、硝基、吡啶氮)、S2p(2p3/2、2p1/2)、Fe2p(Fe²+、Fe³+)等,一键调用模板,自动分峰;
  • 峰型自定义:高斯 (G)/ 洛伦兹 (L) 混合比可调(默认 70:30),支持峰位、半高宽(FWHM)锁定,避免拟合过度;
  • 拟合结果:自动生成拟合峰、拟合曲线、残差曲线,拟合度(R²)实时显示,判断拟合是否合理;
  • 导出:拟合后的峰面积、峰位、半高宽可一键导出至 Excel,直接用于数据分析。

▶ 模块 4:Report & Export 「图谱导出 + 报告生成」(论文刚需)

XPS 的图谱导出对论文排版至关重要,6.9.0 的导出功能非常灵活,完美适配 SCI 论文的图谱格式要求:
  • 谱图导出:支持导出 高分辨率矢量图(EMF、EPS、SVG) 和位图(PNG、TIF),分辨率可调(300/600/1200 dpi),无水印,谱图的横坐标(结合能)、纵坐标(强度)、峰标注可自定义;
  • 数据导出:元素含量、拟合数据、深度剖析的元素分布数据,可导出为 Excel、ASCII、VAMAS 格式,兼容 Origin、SigmaPlot 做二次绘图;
  • 报告生成:内置报告模板,自动生成包含「采集参数、预处理步骤、定性定量结果、拟合数据」的完整报告,可直接用于实验记录和结题报告。

新手高频技巧(效率提升)

校准必做:所有谱图采集前,一定要用 C1s 284.8 eV 校准结合能,否则峰位偏移,定性定量全错;

模板复用:同类型样品的采集参数、拟合模板,保存为自定义模板,下次一键调用,节省大量时间;

拟合原则:分峰拟合时,先锁定峰位,再调半高宽,最后调峰面积,避免拟合过度,R²≥0.99 即可,无需追求完美;

深度剖析:刻蚀速率要先标定,避免深度计算误差,采集时设置「刻蚀 – 采集」循环,自动生成深度分布曲线;

谱图导出:论文用图优先导出EMF 矢量图,插入 Word/Origin 后无锯齿,分辨率拉满。

✔ 避坑指南(常见错误,6.9.0 已修复大部分,但仍需注意)

❌ 不要用「Linear 背景」处理有机样品:有机样品的背景用Shirley 背景,Linear 背景会导致峰面积积分偏小,定量结果偏低;

❌ 不要忽略杂峰:C 污染峰(284.8 eV)是 XPS 的通病,定量时可选择「排除 C 元素」,避免污染峰干扰其他元素的含量计算;

❌ 不要过度平滑谱图:平滑次数过多会导致峰形失真,半高宽变大,拟合结果不准,一般平滑 3-5 次即可;

❌ 不要混用灵敏度因子:不同元素的 SF 值是软件内置的,不要手动修改,否则定量结果偏差极大。

最低系统配置(流畅运行)

系统:Windows 10 64 位(推荐)/ Windows 11 64 位(兼容无 bug)

内存:≥16 GB(处理深度剖析的千级谱图需要大内存)

硬盘:≥50 GB 固态硬盘(软件安装 + 数据存储,机械硬盘会卡顿)

显卡:集成显卡即可,无需独立显卡

相关文件下载地址
远程代装加V:tiancigg
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